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当前我国的集成电路量产工艺已经进入到14nm，以EUV光刻机为代表的工艺制造设备价格极其昂贵，高校很难采购这类设备用于教学，同时，新手操作容易损坏，又有一定的危险性，使得高校集成电路工艺教育与真实工艺线人才需求脱节。为此，我们研发了14nm集成电路工艺套件。
该套件包含如下内容
1. 完整的14nm工艺线虚拟制造设备操作：氧化炉、CVD设备、PVD设备、刻蚀机、离子注入机、退火设备、外延设备。
2. 完整的14nm工艺线虚拟制造步骤及晶圆微观结构、参数特性、电学特性等：氧化、淀积、光刻、刻蚀、离子注入、扩散、退火、外延。
3. 完成的14nm工艺线典型器件制造步骤及器件微观结构、参数特性、电学特性等：14nm FinFET；GaAs；LDMOS；MOSFET；BJT；DIODE；RESISTOR。
4. 完善的工业级集成电路版图设计，包含基本器件单元和电路的版图设计及GDSⅡ文件的导入和导出。
5. 7nm微纳电子教学套件衔接，实现从工艺制造到器件测试完整过程。
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