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产品详情

小型磁控溅射仪 KT—Z1650PVD是一款小型台式溅射功率可控磁控溅射仪，仪器虽小功能齐全，配备有电压，电流反馈，样品台旋转，样品高度可调节及电动挡板功能。通过定时调节预溅射功率及薄膜沉积功率，可对大部分金属进行均匀物理沉积，真空腔室为透明石英玻璃减少样品污染，样品台可旋转以获得更均匀的薄膜，可制备各种金属薄膜。

电子在电场的作用下加速飞向基片的过程中与氩原子发生碰撞，电离出大量的氩离子和电子，电子飞向基片。氩离子在电场的作用下加速轰击靶材，溅射出大量的靶材原子，呈中性的靶原子（或分子）沉积在基片上成膜。二次电子在加速飞向基片的过程中受到磁场洛伦兹力的影响，被束缚在靠近靶面的等离子体区域内，该区域内等离子体密度很高，二次电子在磁场的作用下围绕靶面作圆周运动，该电子的运动路径很长。

小型磁控溅射仪

小型磁控溅射仪 技术参数

控制方式	7寸人机界面手动自动模式切换控制
溅射电源	直流溅射电源
镀膜功能	0-999秒5段可变换功率及挡板位和样品速度程序
功率	≤1000W
输出电压电流	电压≤1000V 电流≤1A
真空	机械泵 ≤5Pa（5分钟）分子泵≤5*10^-3Pa
溅射真空	≤30Pa
挡板类型	电控
真空腔室	石英+不锈钢腔体φ160mm x 170mm
样品台	可旋转φ62 （可安装φ50基底）
样品台转速	8转/分钟
样品溅射源调节距离	40-105mm
真空测量	皮拉尼真空计（已安装测量范围10E5Pa 1E-1Pa）
预留真空接口	KF25抽气口 KF16放气口 6mm卡套进气口