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产品详情
optogama闪烁晶体，衰减时间快，稳定性高
optogama 提供高质量的闪烁晶体，可吸收伽马射线或中子等高能辐射，并将该能量转化为可见光子的短脉冲。这些晶体具有密度高、运行速度快、辐射硬度大、性价比高等特点。闪烁晶体可用于科研、医疗和工业应用，可根据要求提供定制解决方案。
此外，闪烁晶体的订货数量是2件。
Ce:LYSO 晶体
Lu₂SiO₅: Ce是一种相对较新的闪烁晶体，因其速度快、机械强度高和耐化学性好而闻名。
主要特点：
衰减时间快，光输出高，机械阻力和稳定性，高密度和抗辐射硬度
应用：
断层扫描系统 (PET)，医疗XCT，高能物理，辐射探测器，石油测井，安全扫描，伽马光谱
光谱和热机械性能：
| 密度（g/cm 3） | 7.2 |
| 熔点 (°C) | 2050 |
| 硬度（莫氏） | 5.8 |
| 衰减时间 (ns) | 64 |
| 有效原子序数 | 40-45 |
| 发射峰(nm) | 420 |
| 光产率（光子/MeV） | 29000 |
| 光输出（至 NaI: Tl） | ~85% |
| 折射率 | 1.82 |
| 吸湿性 | 无 |
参数规格：
| 尺寸 | 阵列 | 长度 | 镀膜 | 面尺寸公差 | 长度公差 | SKU |
| 4x4 mm | 16 | / | 无 | +/-0.15 | +/-0.15 | 19587 |
| 8 x 8 mm | 64 | / | 无 | +/-0.15 | +/-0.15 | 19588 |
| 16 x16 mm | 256 | / | 无 | +/-0.15 | +/-0.15 | 19589 |
Ce:YAG 晶体
Ce:YAG晶体具有优异的机械性能和耐化学性，可用于环境的检测，并能用薄型屏幕进行生产。它还具有很高的发光效率，其峰值发射（550nm）可以与硅光电二极管探测器器件有效耦合。
主要特点
机械阻力和稳定性，良好的导热性，衰减时间快，不吸湿
应用：
低能辐射和阿尔法粒子检测，电子和X射线成像屏幕，β和X射线计数
光谱和热机械性能：
| 密度（g/cm 3） | 4.56 |
| 熔点 (°C) | 1970 |
| 硬度（莫氏） | 8.5 |
| 衰减时间 (ns) | 70 |
| 有效原子序数 | 32 |
| 发射峰(nm) | 550 |
| 光产率（光子/MeV） | 15000 |
| 光输出（至 NaI: Tl） | 40% |
| 折射率 | 1.82 |
| 吸湿性 | 无 |
| 能量分辨率 | <8% |
参数规格：
| 尺寸 | 厚度 | 镀膜 | 表面平整度 | 表面质量 | 面尺寸公差 | 长度公差 | SKU |
| 10 x 10 mm | 1 mm | 无 | L/2 | 40/20 S/D | +/-0.15 | +/-0.15 | 19562 |
| 20 x 20 mm | 1 mm | 无 | L/2 | 40/20 S/D | +/-0.15 | +/-0.15 | 19563 |
| 10 x 10 mm | 1 mm | 无 | L/2 | 40/20 S/D | +/-0.15 | +/-0.15 | 19564 |
| 20 x 20 mm | 1 mm | 无 | L/2 | 40/20 S/D | +/-0.15 | +/-0.15 | 19565 |
Ce:YAP晶体
Ce:YAP闪烁体是一种快速、机械强度高、耐化学腐蚀的闪烁晶体。其高机械性能使其能够进行精密加工，并且可以在晶体的入口表面直接沉积一层非常薄的铝层来制作入口窗口。
主要特点：
机械阻力和稳定性，衰减时间快，不吸湿
应用：
伽玛和 X 射线计数，电子显微镜，X 射线成像屏幕，断层扫描系统；
光谱和热机械性能：
| 密度（g/cm 3） | 5.4 |
| 熔点 (°C) | 1875 |
| 硬度（莫氏） | 8.5 |
| 衰减时间 (ns) | 25 |
| 发射峰(nm) | 370 |
| 光产率（光子/MeV） | 25000 |
| 光输出（至 NaI: Tl） | 70% |
| 折射率 | 1.96 |
| 吸湿性 | 无 |
| 能量分辨率 | <5% |
参数规格：
| 尺寸 | 厚度 | 镀膜 | 表面平整度 | 表面质量 | 面尺寸公差 | 长度公差 | SKU |
| 10 x 10 mm | 1 mm | 无 | L/2 | 40/20 S/D | +/-0.15 | +/-0.15 | 19582 |
| 20 x 20 mm | 1 mm | 无 | L/2 | 40/20 S/D | +/-0.15 | +/-0.15 | 19586 |
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