JKLR-420高低温半导体冷热台

JKLR-420高低温半导体冷热台

高低温冷热台的结构和工作原理

高低温冷热台主要由制冷系统、加热系统、温度控制系统和测试腔室等组成。制冷系统通常采用液氮或机械制冷，加热系统采用电加热，温度控制系统采用高精度的温度传感器和控制算法进行控制。测试腔室是一个密闭的空间，可以放置需要进行温度控制的样品。

高低温冷热台的工作原理是将样品放置在测试腔室中，通过制冷系统将测试腔室降温到所需的低温，再通过加热系统将测试腔室升温到所需的室温。在温度控制过程中，温度控制系统会不断监测测试腔室的温度，并根据需要进行调整，以保证温度的 J确控制。

高低温冷热台的优点和应用领域

高低温冷热台具有精度高、稳定性好、操作简便等优点，因此在科研和工业生产中得到了广泛的应用。例如，在材料科学领域中，高低温冷热台可以用于研究不同温度下材料的物理和化学性质；在航空航天领域中，高低温冷热台可以用于模拟高空环境中的温度变化；在电子行业中，高低温冷热台可以用于测试半导体器件在不同温度下的性能表现。

JKLR-420高低温半导体冷热台是可以使用显微镜载物片载样，且容易使用的通用型冷热台。此系列冷热台为大区域冷热台，主要用于等温分析，不需要非常高的加热和冷却速率，温度的热稳定性优于0.1°C。

    样品放置在载物片上，载物片直接放置在抛光的加热元件上且可以进行15mm的X、Y方向移动。样品腔室是气密的，气体阀可以控制腔室内的环境，即惰性气体或湿度。为了减小样品上的温度梯度，加热台上的光孔只有2.5mm。

参数：

温度范围：-196℃到420℃（-196℃需要冷却系统选项）

在线温度/时间曲线

样品区域53.5 x 43 mm

X、Y方向移动距离15 x 15mm

样品夹持器76 x 26mm 标准载玻片

气密样品室，可以控制样品环境

上滑盖方便导入样品

可用于透射和反射光

台体尺寸- 166 x 90 x 24 mm

100 欧姆白金传感器

全程温度稳定性和精度<0.1°C

内盖可以增加温度稳定性

大升温速率50°C/min

物镜 小工作距离6 mm

聚光镜 小工作距离13.2 mm