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EOT高功率法拉第光隔离器

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更新时间:2024-05-26

有效日期:还剩69

产品详情



PAVOS高功率法拉第光隔离器1010-1080nm,被动安装,达400W,输入偏振可调

PAVOS法拉第光隔离器特点:

-被动;不需要调整

-性能达400W

-由于更短的转子材料,改进了热透镜效应

-可调谐激光功率和工作温度

-与标准PAVOSa相比,吸收和热透镜焦移的1/10

-理论上比非线性折射率低10

-可选EOT、最短光程的PAVOS Ultra版本


PAVOS高功率法拉第光隔离器应用:

-高平均功率应用

-超快研发

-微电子学

-医疗系统和设备制造

-微加工

-粒子加速

-消除放大系统中的ASE,包括CPAMOPA和再生放大锁模激光器

-保护激光免受由照射高反射材料引起的背反射

-防止种子激光器和其他单频激光器的频率不稳定




一般的EOT隔离器所使用的的功率不大,面对大功率激光器使用的要求时,往往面临着热透镜效应高等而影响使用效果。EOT高功率法拉第光隔离器可以解决以上客户的顾虑,这种EOT隔离器又叫做EOT高功率隔离器PAVOS法拉第光隔离器PAVOS高功率法拉第光隔离器大功率光隔离器高功率法拉第隔离器高功率光隔离器等等。

EOT高功率法拉第光隔离器,为满足当今固态激光器防止反馈和背反射,通过性设计,以现有PAVOS设备系列为基础,具有竞争力的价格增加了灵活性和性能。这种PAVOS法拉第光隔离器有30多年的经验,可满足高功率和高能量的1µm1010nm1080nm)激光器的需求而设计。传输速率高,依靠高Verdet常数、低吸收材料的法拉第效应来向前旋转线偏振光平面,并在反向中额外旋转45°的非互易旋转。

原理上有什么优势呢?法拉第隔离器提供大约1/10的吸收和热透镜焦移a,与标准PAVOS+隔离器或隔离器相比,理论上可以提供低十倍的非线性折射率。这导致更少的克尔透镜焦移,以防止灾难性的全光束自聚焦。

覆盖高功率和高能量1010~1080nm,其性能稳定,平均功率高达400W

平均透过率>93%,输入极化和输出极化支持水平、45°、垂直方向。

损伤阈值10J/cm2@10ns1J/cm2@8ps1MW/cm2 CW,储存温度在-20~60℃左右,可定制工厂可调温度范围,满足客户个性化的使用要求。

大功率光隔离器输出端可选波片、可提供精密安装、提供精确的拒绝光束指向、可定制等等。

EOT高功率法拉第光隔离器规格

PAVOS+ 4mm
光隔离器

PAVOS+ Ultra 4mm
法拉第隔离器

PAVOS
光隔离器

PAVOS
超高功率光隔离器

波长

1010~1080nm

有效孔径

4mm

4mm

2mm,5mm

8121520253545mm

5mm,8mm,12mm

功率

Min≥125W

Typ≥150W

---

---

---

平均功率

1~300W

---

---

---

峰值透过率

≥98%

≥93%

≥95%

>95%b

>92%

>95%

PeakExtinction

≥33dBa

≥30dBd
≥27dBe

≥33dBd
≥30dBe

>33dBb
Typical>37dB

>30dB
Typical>35dB

>33dBbTypical
>27dBmin

输入极化

水平、45°、垂直

输出极化

水平、45°、垂直

PeakRot@ion

45°±2.0°

45°±2.0°

45°±1.0°

45°±0.5°

45°±2°

45°+2/-5°

损伤阈值

10J/cm2@10ns
1J/cm2@8ps
1MW/cm2CW

≥6J/cm2@10ns
≥0.6J/cm2@8ps

≥10J/cm2@10ns
≥1J/cm2@8ps

10J/cm2@10ns
1J/cm2@8ps
1MW/cm2CW

7J/cm2@10ns
600mJ/cm2@8ps

储存温度

-20~60ºC

-20~60ºC

-40~70ºC

-10~60ºC

-40~70ºC

工厂可调温度范围

10~28ºC

----

----

10~30ºC

可定制

10~30ºC

光束指向性

----

----

----

<5mrad

Uponrequest

<5mrad

可选

输出端可选波片
可提供精密安装
提供精确的拒绝光束指向
鼓励定制请求

提供输入/输出波片
精密安装能力
可定制

提供输入/输出波片
可提供精密安装
提供精确的拒绝光束指向
鼓励定制请求

提供输入/输出波片
精密安装能力
提供精确的拒绝光束指向
可定制

应用

消除放大系统中的ASE,包括CPAMOPA和再生放大锁模激光器;
保护激光免受由照射高反射材料引起的背反射;
防止种子激光器和其他单频激光器的频率不稳定;

高平均功率应用
超快研发
微电子学
医疗系统和设备制造
微加工
粒子加速

超快、脉冲和CW激光器
微电子学
医疗系统和设备制造
微加工
粒子加速

高平均功率应用
超快研发
微电子学
医疗系统和设备制造
微加工
粒子加速










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公司性质:
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