分光椭偏仪SEMILAB在线光谱椭偏仪SE-3000

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产品介绍

SE-3000光谱椭偏仪专为满足微电子、平板显示、镀膜等领域的开发和测试线需求而设计。SE-3000 基于 Semilab的前身，结合了两个晶圆 FOUP 装载端口、一个高速平台、一个搬运机器人和一个高速预对准站，以实现高吞吐量。SE-3000 在光谱范围、性能和光斑尺寸方面具有高性能规格。

用于图案化晶圆应用的微点光谱椭偏仪。在沉积过程中，高精度评估薄膜和多层膜的膜厚值和折射率分布（折射率、消光系数）。旋转补偿器型光谱椭偏仪通过测量从紫外区到近红外区的宽波长范围实现高精度测量。可用于半导体工艺中薄膜、多层膜、外延层等薄膜。

SE-2100光谱椭偏仪是一款研发用的光谱椭偏仪，由带安全罩的实验室设备SE-2000和高速样品台组成。

因为是带安全罩的规格，所以可以在安全性严格的制造工序中使用。适用于评估有机EL、太阳能电池和平板显示器的薄膜厚度和光学特性。自动高度调节传感器可实现快速测绘测量。应用包括印刷电子、光学和电气计量、薄膜涂层表征和层厚控制。

分光椭偏仪 SE-2000 的特点

多项销售业绩

旋转补偿器型高精度测量

使用高分辨率阵列检测器进行高速测量（数秒/点）

光电倍增管PMT高精度测量

背面反射效应去除功能

用户友好的软件

广泛的数据库

具有各种选项的可扩展性

它结合了激光椭圆仪和光谱反射仪，并配备了高精度 XY 平台。测量单层和多层的厚度和光学特性（n 和 k）。测量是非破坏性和非接触式的。

Semilab 的孔隙度计系列 (PS) 计量系统采用光学孔隙度计 (EP) 技术来测量厚度、折射率、孔隙率、孔径分布、杨氏模量和阻挡层完整性。PS 系统将高真空室中的溶剂吸附实验与 Semilab 的光谱椭偏仪 (SE) 技术相结合，为当前和未来工艺的开发、评估和监控提供了全面的计量解决方案。特别是，它解决了多孔低的集成挑战-k 材料。

PS 产品线提供各种级别的自动化和晶圆尺寸功能，从优惠券到 450 毫米晶圆。这种专有技术无需样品刮擦或制备即可实现 CVD 和旋涂多孔薄膜的结构表征。

Semilab AMS 的 SW-3300 使用专有的 SurfaceWave™ 技术来测量薄膜金属和电介质的厚度和均匀性。它专为铜和低 k 材料开发，是一种低成本但功能强大的产品。非常适合瓶形沟槽、直沟槽和介电层的厚度和成分测量。