GMD2000-微纳米氧化铝浆料分散机

微纳米氧化铝浆料分散机

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一、氧化铝的广泛应用

氧化铝具有硬度高、化学稳定性好、导热绝缘性能好等优点，已被广泛应用在陶瓷、无机膜、研磨抛光材料等领域。用作分析试剂、导热相变材料、CCL、环氧塑封料、环氧浇注料填充剂、导热铝基板、导热硅胶垫、导热灌封胶、导热硅脂、导热胶泥、导热双面胶有机溶剂的脱水、吸附剂、催化剂、冶炼铝的原料、耐火材料。

二、氧化铝的分散问题

近年来，已超细氧化***体研制功能陶瓷材料和新型功能复合材料受到人们的广泛关注。但超细氧化***体比表面积大，表面活性高，单个超细颗粒往往处于不稳定状态，颗粒之间因为相互吸引而团聚，易于失去超细粉体*的性能，因此超细氧化***体的分散，是超细氧化***体走向实用化的关键。

在水溶液中，氧化铝浆料中的亚微米机微粒由于受静电引力等作用发生团聚，出现絮凝，分层等现象，破坏浆料的分散稳定性。为此浆料的分散稳定性成为人们研究的重点。影响稳定性的因素有很多，如：分散剂种类及用量、分散设备的选择、粉体的粒度及表面性质、PH值、温度等。

当物料工艺确定后，影响分散稳定性的因素就是浆料中粒子的半径，半径越小，沉降越慢、稳定性越高。这种情况下要提高分散稳定性就必须选用高品质的分散设备，来获得更好的物料粒径，提高分散的均匀性，推荐GMD2000系列研磨分散机，*的结构，胶体磨+分散机一体化设备，14000rpm超高转速，效果好、效率高。

三、微纳米氧化铝浆料分散设备

结合多家化工企业案例，我司推荐GMD2000系列研磨式超高速分散机进行氧化铝分散，一般可获得超细的物料粒径，一般为1-2μm左右。当然还要看具体的物料工艺，以及原始状态。

GMD2000是由胶体磨和分散机组合而成的设备，转速高达18000rpm，强大的剪切力。胶体磨磨头配合分散机分散盘，先研磨后分散。这种特殊的设计的优势在于，粒子细化之后容易出现絮凝现象，所以此时分散十分重要，而砂磨机难以分散。

GMD2000系列研磨分散设备是SGN（苏州）公司经过研究刚刚研发出来的一款新型产品，该机特别适合于需要研磨分散乳化均质一步到位的物料。我们将高剪切均质乳化机进行改装，我们将三层变更为一级，然后在乳化头上面加配了胶体磨磨头，使物料可以先经过胶体磨细化物料，然后再经过乳化机将物料分散乳化均质。胶体磨可根据物料要求进行更换（我们提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五种分散头供客户选择）。

四、实验室氧化铝浆料分散设备

上面介绍的是中试和工业级使用的分散机，若需要在实验室进行小试，可以使用SGN的SA25型手持式高剪切分散机，该款产品可以达到28000rpm的超高转速，团聚颗粒经过工作头下方吸料进入剪切区域，被瞬间撕裂，同时在颗粒表面形成静电电荷，达到混为排斥进而不再团聚的效果。

研磨分散机选型表

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