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光掩模(Reticle/Mask)颗粒探测系统 PR-PD2HR
光掩模(Reticle/Mask)颗粒探测系统 PR-PD2HR半导体工厂对高效和功能性有很高的要求,而Horiba PD系列正因良好的操作性及*的稳定性享有盛誉。光掩模(Reticle/Mask)颗粒探测系统 PR-PD2HR的传输系统在长时间的操作中可以保持传输稳定，性能优异，输出良好的特点，而现在光掩模(Reticle/Mask)颗粒探测系统 PR-PD2HR又可实现低至0.35µm的信号检测。
可适配任意一种Stepper盒的PR-PD2HR可处理多至10个卡夹，也支持多种通讯协议。作为PD系列的一员，本设备提供高功能性对应多种Reticle和掩模版颗粒物监测任务，同时也可在高速输出的条件下进行Glass面及Pellicle面的监测。PR-PD2HR可对半导体工厂的产量提高作出贡献。
可检测的Pattern上的超微颗粒的尺寸可小至0.35µm 。Reticle直径1.0µm、线宽小至1.0µm的情况下，也可减少监测错误到zui小程度。通过*的光学处理方式减少检测错误Horiba*的信号处理可有效抑制低至1.0µm/1.0µmL&S级别的误检。通过可以有效鉴别Pattern的低通过滤器进一步将错检降至zui小程度。而这在高密度Pattern中降低误检率是非常有效的。
