PECS II精密刻蚀镀膜仪

PECS II精密刻蚀镀膜仪

仪器简介：

PECS II精密刻蚀镀膜仪是一款桌面型宽束氩离子抛光及镀膜设备。

对于同一个样品，可在同一真空环境下完成抛光及镀膜。

一款独立、结构紧凑的台式设备。采用两个宽束氩离子源对样品表面进行抛光， 去除损伤层，从而得到高质量样品，用于在 SEM， 光镜或者扫描探针显微镜上进行成像、EDS、EBSD、CL、EBIC 或其它分析。

采用 WhisperLok®技术，可选 配温控液氮冷却台。该功能有助于避免抛光过程 中产生的热量而导致的样品融化或者结构变化。

PECS II内置了一个 10 英寸的触摸屏。不管新手还是专家级用户，都可提高样品的加工可控性 及可重复性。数码变焦显微镜配合 DigitalMicrograph® 软件，可实现对样品加工过程的实时 监控及储存彩色照片，这便于在SEM中进行样品检查和分析。

性能优点：

• WhisperLok 系统： 无需破坏主样品室真空即可装卸样品。

• 低能聚焦潘宁离子枪：可加工对表面损伤敏感的样品，包括 EBSD和 CL。

• 能量从0.1 – 8.0 keV可调: 改进低能抛光效果，减少非晶层；提供更高的能量，以提高抛光速度。

• 液氮样品冷却： 保护样品，避免离子束热损伤，去除可能的假象。

• 10 英寸触摸屏控制：快速，简便地访问所有的控制参数；无需电脑。

• 数码变焦显微镜： 实时监控加工过程。

• DigitalMicrograph 软件彩照存储： 将存储的光学图像与其他分析系统的数据做关联分析。

• 溅射沉积： 溅射靶材至样品表面，防止样品在 SEM/FIB 中发生荷电。

主要应用：

• 半导体

• 金属（氧化物，合金）

• 陶瓷

• 自然资源

技术规格：

订货编号：LR-200636